Benefits
- Beroliger irritert hud: Maskens aktive ingredienser gir en umiddelbar beroligende effekt, spesielt etter behandlinger som laser eller peeling.
- Støtter kollagen og regenerering: Ingredienser som Centella Asiatica og EGF hjelper med å stimulere kollagensyntese og cellefornyelse.
- Intens fuktighetsboost: Ingredienser som glycerin og hyaluronsyre forbedrer fuktbalanse og beskytter mot uttørking.
- Forbedrer hudens barrierer: Den virker beskyttende og kan bidra til å styrke hudens naturlige barriere etter behandling.
- Skånsom og egnet for sensitiv hud: Formulert for bruk selv på stresset og behandlet hud uten å forårsake irritasjon.
How to use
Rens huden før påføring. Ta ut én maske og plasser den over ansiktet og/eller det behandlede området. La masken virke i anbefalt tid (typisk 10–20 min). Ta av masken og massér inn eventuell gjenværende essens i huden. Bruk masken etter estetiske behandlinger eller når huden er irritert for best resultat.
Ingredients
Water, Methylpropanediol, Glycerin, Butylene Glycol, Dipropylene Glycol, 1,2‑Hexanediol, Hydroxyacetophenone, C12‑14 Alkyl‑2‑yl Panthenol, Allantoin, Carbomer, Tromethamine, Disodium EDTA, Fragrance, Linalool, Sodium Hyaluronate, Viscum Album (Mistletoe) Extract, Polygonum Cuspidatum Root Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Centella Asiatica Extract, Aloe Barbadensis Leaf Extract, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Houttuynia Cordata Extract, Ethylhexylglycerin, Caprylyl Glycol.